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当前,国家的人才都是干部,有编制的,人才的流动极为困难。
但是很多研究所都是人浮于事,甚至是无所事事,没有资金,没有项目,看着挺悠闲,但是收入很少。
并且,内地的民营经济还没起来,至于周末工程师、造原子弹不如卖茶叶蛋等现象,还没有出现。
电力保证,这是经济账,上面领导算一算,就能算过来了,不涉及原则问题。
但是人才,给资本家的工厂干活,这是原则问题。
这些问题确实让领导为难,但是也没办法。
众多的人才,分散的这里一个,那里一个。各搞各的,严重缺乏沟通和交流,导致步调也不一致,造成极大地浪费。
这些情况,林天河并没有调查过,却是真实存在的。
但是林天河把晶圆厂开到内地来,如果没办法利用内地的人才,还不如开在港城了。
事实上,当前国内研制光刻机的就有华科院、1445电子所、青华大学、科学院109厂、机电部45所等很多机构院所。
光刻机从发展先后来划分,可以分为接触式、接近式、投影式、步进式和步进扫描式,再到后面的浸润式和euv光刻机。
所谓接触式,是把掩膜板盖在涂有光刻胶的硅片上,打开光源完成曝光。
问题是,光刻胶容易污染掩膜板,且掩膜板易损坏,所以良品率低,成本昂贵。
而接近式中,掩膜板不与硅片接触,在光刻机中加入量测工具,使两者尽量贴近。
但是光有衍射,造成投影边缘模糊,精度下降,有较大的投影误差。
1974年,美国pe推出投影式光刻机,把掩膜板上的图形,经过三次反射,投射在硅片上,可以消除误差,达到理想分辨率。把良率从接触式的10提高到70。
apple ii使用的6502芯片,只要25美金,就是这种光刻机运用的结果。但是这种方式,分辨率无法再提高。
gca公司抓住了机会,1978年推出了dsw4800。光刻机迈进了步进投影式。
原理是把掩膜板上的图形,缩小到原来的1\/4或1\/5,再投射到硅片上,提高了曝光强度和分辨率上限,当光刻机精度进入微米级。
此时,工件台的定位精度和运动速度,就显得极为重要,也让光刻机进入了多工厂合作模式。
dsw4800这台光刻机,售价只要50万美金,而一台ibm大型电脑,差不多也是这个价。这也说明,在林天河当下,光刻机并不是可望不可及的高科技产品。
国内的光刻机,其实也不差,说到底,当前的光刻机还不是后世asml那种,由几十万个零部件组成的庞大系统。
在1966年时,109厂与上海光学仪器厂协作研制出65型接触式光刻机到了77年,gk-3型半自动光刻机诞生,仍然是一台接触式光刻机。
78年,在gk-3型的基础上研发了gk-4,还是接触式的。
1980年,青华大学研制的分布式投影光刻机获得成功,精度达到3微米,接近主流水平,intel的8086制程就是3微米。
但是这远称不上先进,国外已经可以做到1微米,只是晶圆厂更新设备没那么快。
而接下来的1981年,华科院又研制了jk-1型半自动接近式光刻机,这不是倒回去了吗?
1982年,科学院109厂研制了kha-75-1,《仪表工业》评价这是一款接近、接触式半自动光刻机!
终于,1985年中电科45所(机械部45所)研制出分步投影光刻机,后世评价称达到dsw4800的水平。
但是,这些产品都没有得到广泛应用。
接下来3天,他们四人待在招待所,无人理会。
林天河很是惊讶,人才问题这么难以解决?
等到第四日,林天河忍不住了,老头从招待所给伍书记去了电话,要求见一面。
伍书记推脱不过,来到招待所,对四人说道:“你们说的问题,我们领导班子商量后,没有定论。给省里打了报告,根据我过去一个同学所说,省里也是争论不休。你们再等等,实在不行,我向中央打报告,我是真心希望你们投资的!”
林天河说道:“我有个折中的办法,你看行不行。”
伍书记有些怀疑,这小孩子能有什么主意?但是也做出好奇状,说道:“你有什么主意,说来听听?”
林天河思索着说道:“既然是国家干部,不能随便雇佣,那我们租借行不行?”
伍书记一愣,租借?人还可以租借吗?不过想想,也不是不可以呀!
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